Naslov (srp)

Mogućnost primene komercijalnih VDMOS tranzistora snage kao senzora i dozimetara jonizujućeg zračenja izrađenih od elementarnih poluprovodničkih materijala : doktorska disertacija

Autor

Obrenović, Marija D., 1983-, 54689289

Doprinosi

Janićijević, Aco, 1960-, 12545383
Šašić, Rajko, 1960-, 12559719
Kartalović, Nenad, 1960-, 36835943
Kočinac, Saša, 1967-, 12740711

Opis (srp)

U radu se razmatra se uticaj dejstva jonizujućeg zračenja na pouzdanost rada MOS komponenti. Sve veći stepen minijaturizacije elektronskih komponenata i sklopova, kao i stalni porast elektromagnetne i čestične kontaminacije životne sredine, dovodi do nepouzdanosti rada elektronskih uređaja. Kako je savremena civilizacija skoro potpuno zavisna od pouzdanosti rada savremene elektronike, njeno obezbeđivanje od šuma indukovanog jonizujućim zračenjem, predstavlja prvorazredni problem projektovanja integrisanih komponenata visoke gustine pakovanja. To je posebno bitno u situaciji kada su elektronski sklopovi predviđeni za rad u uslovima povećanog polja jonizujućeg zračenja, kao što su nuklearna postrojenja, avioni i kosmičke letelice. Metode koje će se ispitivati su teoretsko eksperimentalne. U radu je istraživan pomeraj napona praga komercijalnih p-kanalnih snažnih VDMOSFET-a tokom ozračivanja gama zračenjem u opsegu doza od 10 do 100 Gy. Ozračivanje je vršteno bez prisustva napona na gejtu kao i sa naponom na gejtu od 5 V. Pokazalo se da postoji linearna zavisnost između pomeraja napona praga i apsorbovane doze zračenja za komponentu kod koje je napon na gejtu tokom ozračivanja iznosio 5 V. Gustine fiksnih i promenljivih centara su određivane iz podpragovskih I-V karakteristika korišćenjem midgap tehnike. Pokazano je da se tokom ozračivanja formira znatno veća gustina fiksnih centara zahvata. Takođe su analizirani mogući mehanizmi odgovorni za formiranje fiksnih i promenljivih centara zahvata tokom ozračivanja.

Opis (srp)

Tehnološko inženjerstvo - Inženjerstvo materijala / Technology Engineerin - Materials Engineering Datum odbrane: 01.06.2020.

Opis (eng)

The influence of ionizing radiation on the reliability of MOS components is considered in the paper. The increasing degree of miniaturization of electronic components and circuits, as well as the steady increase in electromagnetic and particulate environmental contamination, has led to the unreliability of electronic devices. As modern civilization is almost entirely dependent on the reliability of modern electronics, its provision against noise induced by ionizing radiation is a first-class problem for the design of integrated components of high packing density. This is especially important in situations where electronic circuits are designed to operate in the conditions of an increased ionizing radiation field, such as nuclear facilities, aircraft and spacecraft. The methods to be tested are theoretically experimental. The variations in threshold voltage shift in p-channel power VDMOSFETs during gamma-ray irradiation was investigated in the dose range from 10 to 100 Gy. Investigations were performed without gate bias and with 5 V gate bias. Devices with 5 V gate bias exhibit linear dependence between threshold voltage shift and radiation dose. The densities of radiation-induced fixed and switching traps were determined from sub-threshold I-V characteristics using midgap technique. It was shown that the creation of fixed traps is dominant during irradiation. Possible mechanisms responsible for fixed and switching traps creation are also analyzed in this paper.

Jezik

srpski

Datum

2020

Licenca

Creative Commons licenca
Ovo delo je licencirano pod uslovima licence
Creative Commons CC BY-NC-ND 2.0 AT - Creative Commons Autorstvo - Nekomercijalno - Bez prerada 2.0 Austria License.

http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.0/at/legalcode

Predmet

OSNO - Opšta sistematizacija naučnih oblasti, Ispitivanje materijala. Inženjerstvo materijala

VDMOSFET, gamma-ray irradiation, threshold voltage shift, radiationdose

OSNO - Opšta sistematizacija naučnih oblasti, Ispitivanje materijala. Inženjerstvo materijala

VDMOSFET, gama zračenje, promena napona praga, apsorbovana doza